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gate charge中文翻譯,gate charge是什么意思,gate charge發(fā)音、用法及例句

2025-08-31 投稿

gate charge中文翻譯,gate charge是什么意思,gate charge發(fā)音、用法及例句

1、gate charge

gate charge發(fā)音

英:  美:

gate charge中文意思翻譯

常用釋義:柵極電荷:指場效應(yīng)管或金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)管中

閘極電荷;選通電極充電

gate charge雙語使用場景

1、Impact ionization arises from a charge injector (25), defining a virtual diode (30) in the substrate (20) of a floating gate charge storage transistor (11).───碰撞電離通過一在一浮柵電荷存儲(chǔ)晶體管(11)的襯底(20)中限定一虛擬二極管(30)的電荷注入器(25)而產(chǎn)生。

2、Features: Low gate charge, low crss , fast switch.───特點(diǎn):低柵電荷,低反饋電容,開關(guān)速度快。

3、Study on a Novel Gate Charge Retention Voltage-Driven Synchronous Rectifier───新型柵極電荷保持驅(qū)動(dòng)同步整流器的研究

4、the minimum charge sub-sea sharks to switch from each of the minimum gate charge fraction, the default is 10 minutes.───鯊魚海洋最小押分切換每一門的最小起押分?jǐn)?shù),默認(rèn)為10分。

5、In order to describe the characteristics of VDMOS device more intuitively, this paper mainly focuses on the gate charge test.───為了更直觀地描述低壓大電流VDMOS器件特性,對(duì)器件柵電荷特性進(jìn)行了測量和提取。

6、This article takes gate charge characteristics into account and then introduces some methods for calculating output performance of drivers used for switching IGBTs.───本文就利用柵極電荷特性的考慮,介紹了一些計(jì)算用于開關(guān)igbt的驅(qū)動(dòng)器輸出性能的方法。

gate charge相似詞語短語

1、charge ahead───提前收費(fèi);提前充電

2、gate chalk───門粉筆

3、sulphates charge───硫酸鹽電荷

4、la gate───拉門

5、charge───vt.使充電;使承擔(dān);指責(zé);裝載;對(duì)…索費(fèi);向…沖去;n.(Charge)人名;(法)沙爾熱;(英)查奇;n.費(fèi)用;電荷;掌管;控告;命令;負(fù)載;vi.充電;控告;索價(jià);向前沖;記在賬上

6、service charge───n.服務(wù)費(fèi)

7、gate───vt.給…裝大門;n.(Gate)人名;(英)蓋特;(法、瑞典)加特;n.大門;出入口;門道

8、arrival gate───到達(dá)口;下機(jī)門

9、charge number───負(fù)載量

2、2D NAND和3D NAND間有哪些區(qū)別和聯(lián)系

3D NAND是相對(duì)于原先的NAND在工藝上的提升,可以理解為把原先平面的存儲(chǔ)單元構(gòu)建為立體的,這樣一片晶元上存儲(chǔ)的cell會(huì)更多。

傳統(tǒng)的2D NAND工藝到16nm就已經(jīng)飽和了,而3D通過增加縱軸的疊層數(shù)目可以繼續(xù)演進(jìn)三代左右(現(xiàn)有的技術(shù)一般是32層或48層,個(gè)人預(yù)測未來終結(jié)產(chǎn)品會(huì)發(fā)展到128層)。同一片晶元上存儲(chǔ)單元越多即意味著每個(gè)bit的成本更低。

而3D X point則和3D NAND完全不同,NAND是基于floating gate/charge-trap gate MOS技術(shù),而x point則是基于phase change material。通俗的說,NAND是通過晶體管上充放電來存儲(chǔ)數(shù)據(jù),而x point是通過材料是熔化或凝固狀態(tài)來存儲(chǔ)數(shù)據(jù)。從性能上而言,x point會(huì)遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過NAND,這可是Micron和Intel合伙憋了很多年的大殺器,如果能很快的解決現(xiàn)在yield lost問題,會(huì)改變以后存儲(chǔ)世界的格局。

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