1、aligner

aligner發(fā)音

英：　　美：

aligner中文意思翻譯

常見釋義：

n.（機(jī)）調(diào)整器；汽車的轉(zhuǎn)向輪安裝角測(cè)定儀；前軸定位器；隱形牙箍

aligner雙語(yǔ)使用場(chǎng)景

1、Our company specialized in manufacturing and managing of tyre changer, wheel balancer, aligner, lifter and nitrogen gas machine. Five series and more than twenty models.───本公司主要生產(chǎn)經(jīng)營(yíng)各種型號(hào)的輪胎拆裝機(jī)、輪胎平衡機(jī)、四輪定位儀、舉升機(jī)、氮?dú)鈾C(jī)等五大系列20多個(gè)品種的產(chǎn)品。

2、The Wedge Error Compensation Technology Used in the Double Sides Mask Aligner───一種應(yīng)用于雙面光刻機(jī)中的楔形誤差補(bǔ)償技術(shù)

3、During the retention phase, the Clear Aligner acts as a passive retainer but it is activated if relapse occurs.───在保留期，明確光刻作為被動(dòng)聘但它已被激活，如果出現(xiàn)復(fù)發(fā)。

4、A row aligner, supplied by Delta Systems (Rogers, AR), makes sure all eight cakes are lined up evenly.───一排同步，提供的三角洲系統(tǒng)（羅杰斯，AR）的，可以確保所有八個(gè)蛋糕排隊(duì)均勻。

5、The specific parameters of main optical system are deduced from the requirement of pattern transfer for the projection aligner. The limit of these parameters is discussed.───本文從投影光刻機(jī)的圖形傳遞要求出發(fā)，導(dǎo)出投影光刻機(jī)各主要光學(xué)系統(tǒng)的具體要求，并討論這些參數(shù)確定的局限性。

6、In this article, the authors explain the indications and limitations of the Clear Aligner, as well as the laboratory and clinical protocol.───在這篇文章中，作者解釋的適應(yīng)證和局限性的明確光刻，以及實(shí)驗(yàn)室和臨床議定書。

7、The Clear Aligner is an esthetic, efficient, comfortable, and low-cost appliance.───明確光刻是一種美觀，高效，舒適，低成本的設(shè)備。

8、Design and Implementation of a Parallel Frame Aligner in VSR System───甚短距離光傳輸系統(tǒng)并行幀同步電路的設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn)

aligner相似詞語(yǔ)短語(yǔ)

1、dissecting anomalies───解剖異常

2、chrysaline josh garrels───喬希·蓋瑞斯

3、equalization rf───均衡射頻

4、decentralizing power───權(quán)力下放

5、sex baliye───性報(bào)告

6、criminality by political affiliation───按政治派別劃分的犯罪行為

7、cymbalista synagogue───鈸式會(huì)堂

8、cephalitis skin───皮膚頭炎

9、vocality credit union───聲樂信用合作社

10、Alissa cyrine───艾莉莎·西琳。

2、光刻機(jī)被稱為什么？

光刻機(jī)（Mask Aligner）又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機(jī)的種類可分為：接觸式曝光、接近式曝光、投影式曝光。

光刻機(jī)的工作原理是通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經(jīng)物鏡補(bǔ)償各種光學(xué)誤差，將線路圖成比例縮小后映射到硅片上。然后使用化學(xué)方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。光刻機(jī)的制造和維護(hù)需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)基礎(chǔ)，因此，世界上只有少數(shù)廠家掌握。